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6 月 15 日，《日經亞洲評論》報道稱，日本將與美國合作，最早于 2025 年在日本本土建成 2nm 芯片制造基地，以便加入下一代芯片技術的商用化競爭。該報道提到，日美兩國政府將根據雙邊芯片技術合作伙伴關系提供支持，兩國民間企業將在設計和量產方面進行研究。

《日經亞洲評論》報道截圖

目前，臺積電在芯片先進制程上處于全球領先地位，計劃 2025 年量產 2nm 工藝，但該公司通常不會把最先進的工廠建在臺島以外。過去兩年，臺積電相繼宣布在美國和日本建設芯片工廠，其中美國工廠計劃在 2024 年量產 5nm，日本工廠計劃在 2024 年量產 10nm 至 20nm 芯片。

日經亞洲報道稱，日本希望通過在本土生產新一代半導體，確保穩定供應。為實現這一目標，日本和美國企業有望聯合成立新公司，或者日本企業可以建立一個新制造中心。日本經濟產業省將補貼部分研發費用和資本支出。該報道提到，日美最早將于今年夏天開始共同研究，并在 2025 -2027 年之間建立研究和量產中心。" 日本擁有信越化學和 Sumco 等實力強勁的芯片材料制造商，而美國擁有芯片制造設備巨頭應用材料，芯片制造商和主要供應商之間的合作旨在實現 2nm 芯片的量產技術。" 該報道稱。

日媒的預期很美好，但客觀來說，現在談論 2nm 制程可能有些為時過早，畢竟臺積電和三星的 3nm 還未實現量產。